賽默飛原子吸收光譜儀3300定位于實(shí)驗(yàn)室級(jí)別的中高端金屬元素分析設(shè)備,其設(shè)計(jì)旨在滿足多領(lǐng)域痕量、微量金屬元素檢測(cè)需求。該設(shè)備具備火焰法、石墨爐法、氫化物發(fā)生法等多種分析技術(shù)路徑,配備高精度光學(xué)系統(tǒng)、智能數(shù)據(jù)處理模塊及強(qiáng)大的背景扣除功能,可廣泛適配環(huán)境監(jiān)測(cè)、食品安全、制藥、水質(zhì)分析、地礦與材料等領(lǐng)域。
本節(jié)內(nèi)容從儀器組成、關(guān)鍵技術(shù)參數(shù)、系統(tǒng)配置和可拓展性等方面展開詳細(xì)介紹。
儀器類型:雙光束原子吸收光譜儀(AAS)
分析模式:支持火焰原子化、石墨爐原子化、氫化物發(fā)生技術(shù)
光路結(jié)構(gòu):高穩(wěn)定性Czerny-Turner型單色儀
光學(xué)分辨率:0.02nm,全波段自動(dòng)優(yōu)化焦距
波長(zhǎng)范圍:190nm–900nm(紫外到可見區(qū))
波長(zhǎng)重復(fù)性:±0.02nm
波長(zhǎng)準(zhǔn)確度:±0.05nm,自動(dòng)校準(zhǔn)系統(tǒng)內(nèi)置
燈架配置:6位自動(dòng)旋轉(zhuǎn)型燈架
兼容燈型:空心陰極燈(HCL)與增強(qiáng)型陰極燈(EDL)
燈電流調(diào)節(jié):支持0~30mA連續(xù)可調(diào),自動(dòng)設(shè)置最優(yōu)功率
預(yù)熱控制:自動(dòng)定時(shí)預(yù)熱及電流控制系統(tǒng)
切換響應(yīng)時(shí)間:<3秒完成燈位與參數(shù)切換
探測(cè)元件類型:光電倍增管(PMT)
動(dòng)態(tài)響應(yīng)范圍:>10?
檢測(cè)器噪聲:<0.0005Abs
信號(hào)處理方式:模擬+數(shù)字雙通道轉(zhuǎn)換系統(tǒng)
信號(hào)采樣速率:每秒1000次
噴霧器材質(zhì):可更換型鈦合金或塑料噴霧器
燃燒頭類型:100mm標(biāo)準(zhǔn)型/多孔式可選
支持氣體種類:
燃?xì)猓阂胰?、丙?/p>
助燃?xì)猓嚎諝饣蜓鯕?/p>
火焰穩(wěn)定性:<0.5%RSD長(zhǎng)期波動(dòng)
火焰保護(hù)機(jī)制:配備熄火檢測(cè)、漏氣報(bào)警、自動(dòng)熄火
升溫速率:最大可達(dá)2000℃/秒
最高溫度:3000℃(控溫精度±1%)
升溫階段控制:最多支持10段升溫程序
氣流控制:自動(dòng)切換惰性氣(Ar)吹掃和保護(hù)
進(jìn)樣體積范圍:1~50μL,配套自動(dòng)進(jìn)樣器可微量控制
適用元素:As、Se、Sb、Bi、Sn、Pb等
進(jìn)樣方式:在線氣液混合、氣液分離一體系統(tǒng)
反應(yīng)效率:高靈敏氣相富集通道,增強(qiáng)信號(hào)吸收
氣路控制:軟件自動(dòng)調(diào)節(jié)反應(yīng)流速及負(fù)壓負(fù)載
背景扣除方式:
氘燈背景校正(D?)
塞曼效應(yīng)背景校正(適用于石墨爐)
背景校正線性范圍:0–2Abs
響應(yīng)速度:<1s
校正誤差:小于±0.005Abs
該系統(tǒng)能有效處理化學(xué)背景干擾、溶劑發(fā)射干擾及散射干擾,特別適用于復(fù)雜基體樣品分析。
控制軟件系統(tǒng):Thermo Scientific SOLAAR 或?qū)俣ㄖ破脚_(tái)
操作系統(tǒng)兼容性:Windows 10 / 11 64位
支持功能:
元素分析方法預(yù)設(shè)及自定義
自動(dòng)標(biāo)定曲線擬合(線性、多段、曲線等)
自動(dòng)樣品序列運(yùn)行與報(bào)告導(dǎo)出
數(shù)據(jù)追蹤、質(zhì)控監(jiān)測(cè)、權(quán)限分級(jí)
輸出格式:CSV、PDF、Excel、LIMS兼容格式
曲線類型:線性/對(duì)數(shù)線性/分段回歸等
報(bào)告內(nèi)容:吸光度、濃度、檢出限、偏差、回收率、信號(hào)曲線等
質(zhì)控功能:
加標(biāo)回收率分析
空白樣監(jiān)測(cè)
曲線漂移自動(dòng)報(bào)警
USB端口:支持≥4路,用于燈控制、打印設(shè)備、自動(dòng)進(jìn)樣器
串口/以太網(wǎng)口:連接LIMS系統(tǒng)或?qū)嶒?yàn)室自動(dòng)化平臺(tái)
可擴(kuò)展模塊:連接自動(dòng)稀釋系統(tǒng)、自動(dòng)進(jìn)樣器、氣相富集裝置、溫控單元等
自動(dòng)進(jìn)樣器容量:最多可支持120位樣品盤
軟件控制方式:一鍵加載方法、參數(shù)自匹配、定時(shí)運(yùn)行
多任務(wù)管理:支持多個(gè)項(xiàng)目并行排隊(duì)執(zhí)行
溫度:15–35℃
濕度:20%–80%相對(duì)濕度(無冷凝)
電源要求:220V±10%,50Hz,最大功率3000W(含石墨爐)
氣源要求:
空氣壓縮機(jī)或空氣泵
乙炔氣源需穩(wěn)壓控制
氬氣純度≥99.99%(用于石墨爐)
噪音水平:<65dB(典型值)
尾氣排放:支持尾氣吸附系統(tǒng)對(duì)接排風(fēng)系統(tǒng),防止有害氣體泄露
軟件層安全設(shè)計(jì):
操作員權(quán)限設(shè)定
分級(jí)登錄與數(shù)據(jù)防篡改機(jī)制
硬件層安全設(shè)計(jì):
火焰熄滅自動(dòng)關(guān)閉燃?xì)?/p>
石墨爐過溫保護(hù)
電氣短路自動(dòng)斷電
維護(hù)便捷性:
噴霧器與燃燒頭可快速拆卸清洗
自動(dòng)提示燈更換與噴嘴維護(hù)周期
軟件預(yù)設(shè)校準(zhǔn)、清洗、驗(yàn)證步驟
| 技術(shù)參數(shù)類別 | 指標(biāo)說明 | 
|---|---|
| 波長(zhǎng)范圍 | 190–900nm | 
| 波長(zhǎng)準(zhǔn)確度 | ±0.05nm | 
| 光學(xué)分辨率 | 0.02nm | 
| 火焰溫度范圍 | 2300℃–2800℃ | 
| 石墨爐控溫精度 | ±1%(升溫階段) | 
| 背景扣除方式 | 氘燈與塞曼雙系統(tǒng) | 
| 檢測(cè)限(火焰) | ≤2μg/L(Pb、Cd等) | 
| 檢測(cè)限(石墨爐) | ≤0.2μg/L(As、Hg等) | 
| 分析速度 | 火焰法≤10s/樣品,石墨爐≤60s | 
| 重復(fù)性(RSD) | <1.5% | 
| 自動(dòng)化進(jìn)樣 | 支持全自動(dòng)序列控制與清洗 | 
| 數(shù)據(jù)接口格式 | CSV、LIMS、PDF、EXCEL | 
從整體性能與技術(shù)指標(biāo)來看,賽默飛3300原子吸收光譜儀是一款兼具靈敏度、通用性與穩(wěn)定性的實(shí)驗(yàn)級(jí)設(shè)備。其波長(zhǎng)范圍廣、原子化模式多樣、數(shù)據(jù)處理智能、背景修正能力強(qiáng),特別適合以下場(chǎng)景:
高通量檢測(cè)實(shí)驗(yàn)室:快速切換元素、穩(wěn)定輸出結(jié)果;
痕量金屬監(jiān)測(cè)場(chǎng)景:配合石墨爐和塞曼校正,檢出限優(yōu)異;
復(fù)雜基體樣品分析:背景扣除系統(tǒng)提升數(shù)據(jù)可靠性;
日常質(zhì)量控制與科研應(yīng)用:多任務(wù)管理與質(zhì)控流程兼?zhèn)洹?/p>
其配置支持多項(xiàng)擴(kuò)展模塊連接與軟件智能升級(jí),為實(shí)驗(yàn)室實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化與高效能打下堅(jiān)實(shí)基礎(chǔ)。
          
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