伯樂電穿孔儀 165-2661 是伯樂公司專為生物電轉(zhuǎn)化實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì)的高精度設(shè)備。其核心技術(shù)在于通過 短時(shí)高壓脈沖電場(chǎng),在細(xì)胞膜上瞬間產(chǎn)生可逆性微孔,使外源核酸、蛋白質(zhì)或分子顆粒能夠進(jìn)入細(xì)胞內(nèi)部。
在整個(gè)電穿孔過程中,電場(chǎng)強(qiáng)度(Electric Field Strength, E) 是最關(guān)鍵的物理參數(shù)之一。
它直接決定細(xì)胞膜電位變化、孔道形成數(shù)量與孔徑大小,從而影響轉(zhuǎn)化效率與細(xì)胞存活率。
165-2661 電穿孔系統(tǒng)的高精度電壓控制、電極間距匹配及智能時(shí)間常數(shù)管理,確保在各種生物體系下實(shí)現(xiàn)穩(wěn)定的電場(chǎng)強(qiáng)度輸出,從而達(dá)到高效率、低損傷的實(shí)驗(yàn)效果。
電場(chǎng)強(qiáng)度(E)指單位長(zhǎng)度上電壓變化的比率,表示電場(chǎng)在空間中施加的力強(qiáng)度,其基本定義為:
E=VdE = \frac{V}yeaoyqkE=dV
其中:
EEE:電場(chǎng)強(qiáng)度(單位:V/cm);
VVV:施加的電壓(單位:V);
ddd:電極間距(單位:cm)。
電場(chǎng)強(qiáng)度表征了電荷在細(xì)胞懸液中所受的作用力大小,是影響穿孔效率的關(guān)鍵因素。
假設(shè)設(shè)置電壓為 2000 V,電擊杯間距為 0.2 cm,則:
E=20000.2=10?000 V/cm=10 kV/cmE = \frac{2000}{0.2} = 10\,000\ \text{V/cm} = 10\ \text{kV/cm}E=0.22000=10000 V/cm=10 kV/cm
這意味著在電極間區(qū)域內(nèi),樣品細(xì)胞將暴露在 10 kV/cm 的高強(qiáng)度電場(chǎng)中。
細(xì)胞膜是由磷脂雙層構(gòu)成的電介質(zhì)結(jié)構(gòu)。當(dāng)外界電場(chǎng)作用于細(xì)胞時(shí),細(xì)胞內(nèi)部與外部離子分布不均,導(dǎo)致膜兩側(cè)出現(xiàn)極化電位。
其誘導(dǎo)膜電位可近似表示為:
Vm=1.5Ercos?θV_m = 1.5 E r \cos \thetaVm=1.5Ercosθ
其中:
VmV_mVm:膜電位變化(V);
EEE:外加電場(chǎng)強(qiáng)度(V/cm);
rrr:細(xì)胞半徑(cm);
θ\thetaθ:電場(chǎng)方向角。
當(dāng) Vm≥1.0–1.5 VV_m ≥ 1.0–1.5\text{ V}Vm≥1.0–1.5 V 時(shí),膜表面的磷脂分子排列被破壞,形成瞬時(shí)微孔。
不同類型細(xì)胞的膜擊穿閾值不同:
| 細(xì)胞類型 | 電場(chǎng)閾值范圍 (kV/cm) | 特性說明 | 
|---|---|---|
| 細(xì)菌 (E. coli) | 8–12 | 膜厚度小,需較高電場(chǎng) | 
| 酵母 (S. cerevisiae) | 6–8 | 有細(xì)胞壁,需中等電場(chǎng) | 
| 動(dòng)物細(xì)胞(CHO、293T) | 1–2 | 膜柔軟,低場(chǎng)即可穿孔 | 
| 植物原生質(zhì)體 | 1.5–2.5 | 無細(xì)胞壁,穩(wěn)定性低 | 
當(dāng)電場(chǎng)強(qiáng)度低于閾值,孔道無法形成;當(dāng)電場(chǎng)過高時(shí),細(xì)胞結(jié)構(gòu)受損,甚至導(dǎo)致細(xì)胞裂解。
電穿孔中,電場(chǎng)強(qiáng)度的作用可分為三個(gè)階段:
極化階段(Polarization Phase)
外加電場(chǎng)誘導(dǎo)膜電位升高,離子重新分布,膜表面電荷聚集。
穿孔階段(Pore Formation Phase)
電位超過閾值后,膜表面形成微孔,外源分子開始進(jìn)入。
修復(fù)階段(Resealing Phase)
電場(chǎng)撤除后,膜電位恢復(fù),孔道閉合,細(xì)胞結(jié)構(gòu)修復(fù)。
電場(chǎng)強(qiáng)度決定了孔形成的數(shù)量與穩(wěn)定性,是穿孔與細(xì)胞修復(fù)的平衡關(guān)鍵。
165-2661 采用高精度電源模塊與數(shù)字反饋回路,輸出電壓可在 10–3500 V 范圍內(nèi)連續(xù)調(diào)節(jié)。
通過閉環(huán)檢測(cè)系統(tǒng)實(shí)時(shí)監(jiān)控實(shí)際電壓輸出,誤差 ≤ ±1%。
該高精度控制保證了電場(chǎng)強(qiáng)度在不同實(shí)驗(yàn)間的一致性。
不同規(guī)格電擊杯(0.1 cm、0.2 cm、0.4 cm)對(duì)應(yīng)不同電場(chǎng)分布。
165-2661 可通過 ShockPod 內(nèi)置識(shí)別裝置自動(dòng)匹配電極間距,從而在設(shè)定電壓下自動(dòng)計(jì)算并調(diào)整放電能量,保持目標(biāo)電場(chǎng)強(qiáng)度穩(wěn)定。
時(shí)間常數(shù)(τ = RC)影響電場(chǎng)作用時(shí)間。
當(dāng) τ 值過短時(shí),電場(chǎng)作用不足;當(dāng) τ 值過長(zhǎng)時(shí),細(xì)胞受熱損傷增加。
儀器通過電阻匹配與電容自動(dòng)調(diào)節(jié)實(shí)現(xiàn)電場(chǎng)強(qiáng)度與時(shí)間常數(shù)的協(xié)調(diào),確保能量密度在最佳范圍內(nèi)。
內(nèi)置的能量反饋控制系統(tǒng)在放電過程中實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)電流變化,動(dòng)態(tài)調(diào)整電場(chǎng)輸出,使其在高導(dǎo)電樣品中仍保持穩(wěn)定強(qiáng)度,避免電弧放電或能量不足。
電場(chǎng)強(qiáng)度與電壓成正比,與間距成反比。
在設(shè)定實(shí)驗(yàn)時(shí),操作者可通過以下方式調(diào)整:
若需要提高電場(chǎng)強(qiáng)度:
提高電壓或選擇間距較小的電擊杯;
若需降低電場(chǎng)強(qiáng)度:
降低電壓或使用間距較大的電擊杯。
| 體系類型 | 電場(chǎng)強(qiáng)度 (kV/cm) | 電容 (μF) | 電壓 (V) | 電擊杯間距 (cm) | 
|---|---|---|---|---|
| E. coli | 9–12 | 25 | 1800–2500 | 0.2 | 
| 酵母 | 6–8 | 500 | 1200–1600 | 0.2 | 
| 哺乳動(dòng)物細(xì)胞 | 1–2 | 800 | 400–800 | 0.4 | 
| 植物原生質(zhì)體 | 1.5–2.5 | 1000 | 600–900 | 0.4 | 
以上為常用參考值,可根據(jù)實(shí)驗(yàn)?zāi)康倪m當(dāng)微調(diào)。
電場(chǎng)強(qiáng)度雖決定穿孔起始,但時(shí)間常數(shù)決定電場(chǎng)持續(xù)時(shí)間。
最佳組合通常滿足:
E×τ=常數(shù)范圍(40–60 kV\cdotpms/cm)E \times \tau = 常數(shù)范圍 (40–60\ \text{kV·ms/cm})E×τ=常數(shù)范圍(40–60 kV\cdotpms/cm)
該區(qū)間內(nèi)的實(shí)驗(yàn)效果通常兼顧高轉(zhuǎn)化率與高存活率。
165-2661 采用平行板電極結(jié)構(gòu),使電場(chǎng)線分布均勻,避免邊緣效應(yīng)造成局部過熱。
高導(dǎo)電材料保證能量傳遞穩(wěn)定,減少電阻熱。
樣品體積過大或液面過高,會(huì)導(dǎo)致電場(chǎng)分布不均。
建議樣品體積控制在電擊杯最大容量的 70–80%。
導(dǎo)電率越高,電流密度增加,可能導(dǎo)致電場(chǎng)局部不均并產(chǎn)生電弧。
因此需保持緩沖液電導(dǎo)率低(<1.5 mS/cm),以維持電場(chǎng)強(qiáng)度一致性。
電場(chǎng)作用時(shí),部分能量轉(zhuǎn)化為熱能。
溫度升高 1 ℃ 會(huì)增加電導(dǎo)率約 2%,進(jìn)一步影響電場(chǎng)穩(wěn)定。
為避免熱損傷:
樣品、電擊杯及 ShockPod 應(yīng)預(yù)冷;
實(shí)驗(yàn)間隔 ≥10 秒,以便系統(tǒng)散熱。
能量密度 UUU 可由下式計(jì)算:
U=12εE2U = \frac{1}{2} \varepsilon E^2U=21εE2
其中:
UUU:?jiǎn)挝惑w積能量密度(J/cm3);
ε\varepsilonε:介電常數(shù);
EEE:電場(chǎng)強(qiáng)度。
對(duì)于細(xì)胞穿孔而言,能量密度范圍通常為 0.1–0.5 J/cm3。
低于此值難以穿孔,高于此值則可能導(dǎo)致不可逆損傷。
電場(chǎng)強(qiáng)度:9–12 kV/cm;
τ 值:4–5 ms;
若出現(xiàn)電弧,可降低電壓或稀釋樣品。
電場(chǎng)強(qiáng)度:6–8 kV/cm;
τ 值:6–8 ms;
建議添加 1 mM CaCl? 促進(jìn)膜修復(fù)。
電場(chǎng)強(qiáng)度:1–2 kV/cm;
τ 值:7–9 ms;
可采用方波脈沖模式,孔徑更均勻。
電場(chǎng)強(qiáng)度:1.5–2.5 kV/cm;
τ 值:8–10 ms;
可設(shè)置多脈沖模式增強(qiáng)導(dǎo)入效率。
在放電過程中,系統(tǒng)實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)電流反饋,當(dāng)檢測(cè)到樣品導(dǎo)電率上升時(shí)自動(dòng)補(bǔ)償電壓,以保持電場(chǎng)強(qiáng)度恒定。
若電流激增或電場(chǎng)不均引發(fā)電弧,儀器自動(dòng)斷開回路并啟動(dòng)保護(hù)模式,防止樣品與設(shè)備損壞。
系統(tǒng)計(jì)算實(shí)際電場(chǎng)持續(xù)時(shí)間并與設(shè)定參數(shù)比對(duì),若偏差超過 2%,則提示重新校準(zhǔn)。
通過溫度傳感器實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè) ShockPod 狀態(tài),當(dāng)溫度升高至 45 ℃ 時(shí)自動(dòng)暫停運(yùn)行。
實(shí)驗(yàn)表明,轉(zhuǎn)化效率與電場(chǎng)強(qiáng)度呈“倒 U 型”曲線關(guān)系。
低強(qiáng)度區(qū)域(E < 閾值):膜電位不足,穿孔失敗;
最佳區(qū)域(Eopt):轉(zhuǎn)化效率最高,細(xì)胞存活率高;
過強(qiáng)區(qū)域(E > Ecrit):膜永久擊穿,細(xì)胞死亡。
165-2661 通過精確的電壓控制與自動(dòng)匹配算法,使實(shí)驗(yàn)穩(wěn)定處于 Eopt 區(qū)間,實(shí)現(xiàn)最大化效率與存活率平衡。
選擇適合的電擊杯間距;
設(shè)定初始電壓(參考推薦值的 80%);
測(cè)試樣品導(dǎo)電率,確保 < 1.5 mS/cm;
執(zhí)行預(yù)實(shí)驗(yàn)記錄轉(zhuǎn)化結(jié)果;
按 10% 梯度微調(diào)電壓;
確定效率最高且存活率 >70% 的參數(shù)組;
保存為 Preset Protocol。
該流程可建立最適電場(chǎng)強(qiáng)度模型,實(shí)現(xiàn)長(zhǎng)期標(biāo)準(zhǔn)化運(yùn)行。
165-2661 具備內(nèi)置波形檢測(cè)模塊,可輸出實(shí)際放電曲線。
用戶可通過導(dǎo)出的數(shù)據(jù)計(jì)算實(shí)時(shí)電場(chǎng)強(qiáng)度并驗(yàn)證其穩(wěn)定性。
驗(yàn)證公式:
E實(shí)測(cè)=V實(shí)測(cè)dE_{實(shí)測(cè)} = \frac{V_{實(shí)測(cè)}}0e0wiqmE實(shí)測(cè)=dV實(shí)測(cè)
若實(shí)測(cè)值偏離設(shè)定值超過 ±2%,應(yīng)進(jìn)行系統(tǒng)電壓校準(zhǔn)。
長(zhǎng)期運(yùn)行中,若 ShockPod 電極表面氧化或污染,會(huì)導(dǎo)致局部電場(chǎng)集中,產(chǎn)生電弧與能量不均。
因此建議:
每月清潔電極觸點(diǎn);
使用無水乙醇擦拭電極表面;
每 6 個(gè)月檢測(cè)放電電壓一致性;
及時(shí)更換老化電擊杯。
維護(hù)得當(dāng),可保證電場(chǎng)強(qiáng)度長(zhǎng)期穩(wěn)定輸出。
通過調(diào)控電場(chǎng)強(qiáng)度,165-2661 可用于:
基因?qū)肱c克隆實(shí)驗(yàn);
RNA 干擾與蛋白表達(dá)研究;
細(xì)胞融合與納米顆粒遞送;
藥物電穿透性研究;
植物轉(zhuǎn)化與育種研究。
其廣泛的電場(chǎng)控制范圍使其兼容多種生物體系,成為科研實(shí)驗(yàn)室的核心電轉(zhuǎn)化平臺(tái)。
          
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